首页 > 百科词条 > 全面介绍光刻技术原理及其巨大应用前景

全面介绍光刻技术原理及其巨大应用前景

来源:刚凝百科网

光刻技术是涉及到半导体芯片生产的重要技术,也是发挥最为广泛的一种微电子工艺,其涉及到众多的光机械、光学、化学、电子等领域的繁杂物理、化学和信息理论等课程。在大幅提升微处理器和集成电路的制造技术和工艺水平上,现代光刻技术是硅片加工的关键步骤,亦是近期各级区域政府支持的高科技产业之一。

光刻技术是通过优秀的控制技艺来制造出极高效、高成本效益的微处理器和集成电路的技术、是一种高度集成技术,能够在同一块硅片上实现超过百万的晶体管。对于光刻技术的研究,也是近几年光学技术和精密仪器技术的研究的重点之一。近年来,在跨学科的协同研究下,光刻技术在减小电子元器件尺寸、降低功耗、提高集成度和快速生产方面取得显著成就。

相关信息